Popis výrobkov
Charakteristiky cieľa vanádu
Tvar vanádového cieľa: plochý okrúhly cieľ, plochý štvorcový cieľ, rotujúci cieľ, špeciálne prispôsobenie
Čistota vanádového cieľa: 99%, 99,9%
Rozmery cieľa vanád: spracované podľa požiadaviek zákazníka
Proces prípravy vanádového cieľa
1. Odrežte ingoty vanád, ktoré spĺňajú požiadavky na čistotu a veľkosť cieľa pomocou vodorovného píľového stroja. Najprv predhrievajte v 450-500 stupni, potom faly a riadiť celkovú rýchlosť deformácie kovania na 70-80%;
2. Žíhajte ingot vanadium získané kovaním, teplota žíhania je 400-500, čas držania je 60-120 min a potom ju ochladzuje vzduchom;
3. Prevráťte vanadium ingota získaného žíhaním a riadte tlačové množstvo každého priechodu na 0.
4. Žíhajte vanádový cieľový slepý blok získaný opäť valcovaním, teplota žíhania je 450-550, čas držania je 90-150 min a chladenie vody sa vykonáva po opätovnom žíhaní, aby sa získal požadovaný vysokokvalitný cieľový cieľ vanadium.
Aplikácia cieľov vanád
1. SEMEMIMICONDUCTOR A DETÁLNA VÝROBA
Používa sa na ukladanie bariérových vrstiev na ochranu materiálov dolnej vrstvy pred šírením materiálov hornej vrstvy, čím sa zlepšuje spoľahlivosť a výkon zariadenia
2. solárne bunky
V slnečných bunkách tenkých filmov sa vanádové ciele používajú na prípravu účinných vrstiev absorpcie svetla na zlepšenie účinnosti fotoelektrickej konverzie buniek.
3.Flat-panel displeje
Používa sa na výrobu náterov s plochým panelom na zlepšenie efektov a trvanlivosti zobrazenia.
4. Elektronika a polovodičové polia
V elektronických zariadeniach sa môžu ciele vanádu použiť na ukladanie vysoko čistých kovových filmov na zvýšenie vodivosti a stability elektronických zariadení.
Používa sa v poliach slnečnej energie, plochých panelových displejov, elektroniky a polovodičov, ako sú integrované obvody, metalizácia základnej dosky, optoelektronika a ďalšie aplikácie.
