Kovový terčZáklady naprašovania
Cieľ, to je jednoducho využitie elektrónov alebo vysokoenergetického laserového bombardovania na naprašovanie povlakov. Nakoniec sa povrchové zložky nanesú na povrch substrátu po tom, čo sú rozprášené ako atómové skupiny alebo ióny, prechádzajú procesom tvorby filmu a vytvárajú tenký film.
Naprašovacie nátery prichádzajú v širokej škále odrôd. Typicky sú to odparovacie povlaky Rýchlosť naprašovania bude jedným z kľúčových parametrov, čo je rozdiel. Povlak laserovým naprašovaním pld v naprašovacom povlaku je jednoduchý na udržanie rovnomerného zloženia, ale rovnomernosť hrúbky v atómovom meradle je relatívne nízka (pretože ide o pulzné naprašovanie) a riadenie rastu orientácie kryštálov (vonkajšia hrana) je pomerne všeobecné.
Stupeň zhody mriežky medzi substrátom a cieľovým materiálom, prostredie povlaku (nízkotlaková plynová atmosféra), teplota substrátu, výkon lasera, frekvencia impulzov a čas naprašovania sú dôležité parametre v pld, ako príklad . Ideálne parametre sú potrebné pre rôzne podklady a naprašovacie materiály. Sú rôzne, podľa experimentov. Schopnosť nanášacieho zariadenia presne riadiť teplotu, zabezpečiť dobré vákuum a udržiavať čistú vákuovú komoru sú tri kľúčové faktory, ktoré určujú jeho kvalitu.
