Dnes Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. dodala tantalum cieľ. Tantalum je veľký veľkosť, s vynikajúcou výrobnou technológiou a hladkým a jasným povrchom. Cieľ má vysokú rovinnosť a veľmi rovný povrch. Čistota povrchu je vysoká a na povrchu nie je žiadny olej, prach a oxid.
Yusheng Metal môže použiť rôzne procesy na výrobu cieľov podľa požiadaviek zákazníka.
Metóda vákuového topenia:
Proces: Melt Tantalum Metal vo vákuovom prostredí.
Výhody: Vyhnite sa oxidácii a nečistotám, aby ste zaistili vysokú čistotu cieľa.
Technológia Hot Isostatic Lissing:
Proces: Používajte vysoký teplotu a vysoký tlak na zhustenie prášku Tantala do cieľa.
Výhody: Vytvorte vysokú hustotu a rovnomernú cieľovú štruktúru.
Metóda topenia elektrónového lúča:
Vlastnosti: Používajte elektrónový lúč ako zdroj tepla na roztopenie kovu tantalu.
Výhody: Proces topenia je možné presne kontrolovať, aby sa zlepšila rovnomernosť a čistota cieľa.
Technológia poťahovania plazmy:
Vlastnosti: Vklad tantalum materiálu na rotujúcom substráte pomocou plazmovej technológie.
Výhody: schopné vyrábať ciele so špecifickými mikroštruktúrami pre špeciálne aplikácie.
