Meno: Tantalum (TAVET Target)
Typ: Target roviny, cieľ viacerých ARC, okrúhly cieľ, rotujúci cieľ
Veľkosť obilia: 45 mikrónov
Čistota: 99,99%, 99,999%
Drsnosť povrchu: Ras 0. 8um (rozprašovací povrch), Ras6.4um (pre metalizáciu)
Veľkosť cieľa φ25, 3 0, 40, 50,5, 60, 76,2, 80, 100, 101,6 mm, t: 0. 2-10 mm atď.
Príslušné vybavenie pre cieľ Tantalum: použiteľné na rôzne systémy rozprašovania s jedným cieľom, viaccieľové rozprašovacie systémy, systémy rozprašovania iónov a ďalšie zásobovacie zariadenia Magnetron North Huachuang, Zhongke Keyi, Shenyang Keyi, Čína elektronická technológia, Atď.
Oblasti cieľových aplikácií Tantalum: aplikácie výroby a vedeckého výskumu, optika, spracovanie mikro-nano, zariadenia a iné odvetvia, široko používané v polovodičových čipoch, solárne svetlo
Typ: plochý cieľ, cieľ viacerých ARC, okrúhly cieľ, rotujúci cieľ, plochý displej, špeciálny povlak a ďalšie výrobky na poťahovanie.
Kontakt: Kelly
E -mail: kd@tantalumysjs.com
Whatsapp\/skype: +86 13379388917
Telefón\/wechat: +86 13379388917
Fax: 0917-3139100
Poštový kód: 721013
Web: www.tantalumysjs.com
Pridať: Priemyselná zóna Wenquan Village, Gaoxin Development Zone, mesto Baoji, provincia Shaanxi, Čína
